研究者詳細情報
| 研究者 | 高村 由起子 |
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| 大学 | JAIST マテリアルサイエンス系、応用物理学領域 |
| 研究室名 | |
| 専門分野 | 薄膜成長、表面界面工学 |
| 研究テーマ | 薄膜、超高真空、気相成長、エピタキシー、窒化物、ホウ化物、走査プローブ顕微鏡、シリセン |
| 検索キーワード |
薄膜、超高真空、気相成長、エピタキシー、窒化物、ホウ化物、走査プローブ顕微鏡、シリセン
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